Повнотекстовий пошук
Пошуковий запит: (<.>A=Tursunov I$<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 4
Представлено документи з 1 до 4
|
1. |
Zainabidinov S. Influence of deep-level impurities on the strain electric properties of monocrystalline silicon [Електронний ресурс] / S. Zainabidinov, O. O. Mamatkarimov, O. Khimmatkulov, I. G. Tursunov // Український фізичний журнал. - 2017. - Т. 62, № 11. - С. 951-954. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhJ_2017_62_11_7 Ефект п'єзорезистентності досліджено в компенсованих і термічно оброблених зразках Si: Zn і Si: Zn, Mn за одновісного пружного стискування. Показано, що цей ефект зумовлений змінами концентрації та рухливості носіїв струму. Аномальні зміни рухливості носіїв за стиску навколо кристалографічної осі [111] пов'язані зі зміною їх розсіювання на великомасштабних утвореннях дефектів.
| 2. |
Zainabidinov S. Influence of deep-level impurities on the strain electric properties of monocrystalline silicon [Електронний ресурс] / S. Zainabidinov, O. O. Mamatkarimov, O. Khimmatkulov, I. G. Tursunov // Ukrainian journal of physics. - 2017. - Vol. 62, № 11. - С. 957-960. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Ukjourph_2017_62_11_7 Ефект п'єзорезистентності досліджено в компенсованих і термічно оброблених зразках Si: Zn і Si: Zn, Mn за одновісного пружного стискування. Показано, що цей ефект зумовлений змінами концентрації та рухливості носіїв струму. Аномальні зміни рухливості носіїв за стиску навколо кристалографічної осі [111] пов'язані зі зміною їх розсіювання на великомасштабних утвореннях дефектів.
| 3. |
Tursunov I. G. Investigations of the deep-level parameters in semiconductors [Електронний ресурс] / I. G. Tursunov // Ukrainian journal of physics. - 2017. - Vol. 62, № 12. - С. 1041-1043. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Ukjourph_2017_62_12_6 Запропоновано методи деформації для дослідження параметрів глибокого рівня в напівпровідниках. Він базується на вимірах параметрів деформації компенсованих і надкомпенсованих напівпровідників. Досліджено динамічні зміни струму в компенсованих та надкомпенсованих зразках p-типу Si: Ni та n-типу Si: Mn за однорідного імпульсного гідростатичного стискування (ОГС). Встановлено, що в p-типу Si: Ni зразках енергія іонізації Ni за ОГС збільшується. Навпаки, вона зменшується в зразках n-типу Si: Mn. Енергія іонізації та баричний коефіцієнт зсуву рівнів Ni і Mn були обмеженими.
| 4. |
Tursunov I. G. Investigations of the deep-level parameters in semiconductors [Електронний ресурс] / I. G. Tursunov // Український фізичний журнал. - 2017. - Т. 62, № 12. - С. 1034-1036. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhJ_2017_62_12_6 Запропоновано методи деформації для дослідження параметрів глибокого рівня в напівпровідниках. Він базується на вимірах параметрів деформації компенсованих і надкомпенсованих напівпровідників. Досліджено динамічні зміни струму в компенсованих та надкомпенсованих зразках p-типу Si: Ni та n-типу Si: Mn за однорідного імпульсного гідростатичного стискування (ОГС). Встановлено, що в p-типу Si: Ni зразках енергія іонізації Ni за ОГС збільшується. Навпаки, вона зменшується в зразках n-типу Si: Mn. Енергія іонізації та баричний коефіцієнт зсуву рівнів Ni і Mn були обмеженими.
|
|
|